原料を入れたトレイを真空容器内部の棚に静置し、加熱しながら乾燥します。容器内の棚は、それぞれが温水または蒸気の通る加熱板棚になっています。その伝熱・幅射による間接加熱で乾燥をはやめます。
[特長]
  1. 真空下での低温乾燥のため、熱に弱い原料や酸化を嫌う原料の乾燥が可能です。
  2. 高真空での処理により、製品の含水率をきわめて低く抑えることができます。
  3. 粉粒状物だけでなく、液状物から高濃度、高粘度物まで対応します。
  4. 静置乾燥のため、振動や摩擦に弱い原料の乾燥が可能です。
  5. 超薄型の加熱板棚により、乾燥機は超コンパクト型となっています。
  6. 温度コントロールが容易で、温度むらがほとんどありません。
  7. 強酸物、金属を嫌う原料も、特殊材料や樹脂ライニングにより処理が可能です。
  8. 溶剤の回収が容易です。
[用途]
医薬品、食品、化学工業薬品、電子材料等
■乾燥機内部
[バリエーション]
■規格表
機番 仕込量
(L)
乾燥室寸法(mm) 棚段数
(有効)
トレイ
枚数
トレイ寸法(mm) 据付寸法(mm)
奥行 高さ 奥行 高さ 奥行 高さ
KSV1-1/6 45 550 790 700 6 6 450 700 40 900 1,500 1,250
KSV1-1/10 75 550 790 1,100 10 10 450 700 40 900 1,500 1,650
KSV2-2/10 150 1,050 790 1,100 10 20 450 700 40 1,500 1,500 1,650
KSV2-2/15 225 1,050 790 1,600 15 30 450 700 40 1,500 1,500 2,150
KSV3-3/15 490 1,400 1,200 1,600 15 45 400 1,100 40 1,900 1,900 2,150
KSV4-4/15 650 1,850 1,200 1,600 15 60 400 1,100 40 2,400 1,900 2,150
注. 仕込量はトレイ上に厚さ約25mm積載した場合の量、据付寸法は扉を閉じた状態の寸法を示します。

 

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